Please use this identifier to cite or link to this item: http://hdl.handle.net/123456789/23813
Title: Вдосконалення технології отримання борованих і силіцьованих шарів та порівняння їх властивостей
Other Titles: Improving the technology of producing boron and siliconized layers and comparing their propertie
Authors: Князєв, Сергій Анатолійович
Князєва, Ганна Олександрівна
Субботіна, Валерія Валеріївна
Волков, Олег Олексійович
Рябоштан, Валентин Анатолійович
Keywords: силіціювання
боридний шар
металографічні дослідження
інструментальне індентування
нітрид хрому
Issue Date: 2025
Publisher: Прикарпатський національний університет імені Василя Стефаника
Citation: Князєв С. А. Вдосконалення технології отримання борованих і силіцьованих шарів та порівняння їх властивостей / С. А. Князєв, Г. О. Князєва, В. В. Субботіна, О. О. Волков, В. А. Рябоштан // Фізика і хімія твердого тіла. - 2025. - Т. 26. - № 2. - С. 436-441.
Abstract: В статті представлені результати досліджень отримання однофазного боридного шару та твердо-газофазного силіціювання на вуглецевій конструкційній сталі. Показано вплив зернистості порошків і складу насичуючої суміші на структуру та властивості дифузійних покриттів. Порівняно властивості отриманих поверхневих структур з покриттями нітриду хрому, отриманого методом PVD. Встановлено можливість отримання товстих дифузійних однофазних боридних та силіцидних шарів, що за рівнем механічних і хімічних характеристик не поступаються нітридним, отриманим іонно-плазмовим осадженням. Показано наявність у силіцидному шарі 75,7% FeSi, 19,6% Si2CN4 та 4,8% Al5Fе фаз, що забезпечило високі показники стійкості до окислення при температурі 1000°С.
URI: http://hdl.handle.net/123456789/23813
Appears in Collections:Т. 26, № 2

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
29_Kniaziev.pdf755.94 kBAdobe PDFView/Open


Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.