Будь ласка, використовуйте цей ідентифікатор, щоб цитувати або посилатися на цей матеріал: http://hdl.handle.net/123456789/23813
Повний запис метаданих
Поле DCЗначенняМова
dc.contributor.authorКнязєв, Сергій Анатолійович-
dc.contributor.authorКнязєва, Ганна Олександрівна-
dc.contributor.authorСубботіна, Валерія Валеріївна-
dc.contributor.authorВолков, Олег Олексійович-
dc.contributor.authorРябоштан, Валентин Анатолійович-
dc.date.accessioned2025-10-21T08:55:26Z-
dc.date.available2025-10-21T08:55:26Z-
dc.date.issued2025-
dc.identifier.citationКнязєв С. А. Вдосконалення технології отримання борованих і силіцьованих шарів та порівняння їх властивостей / С. А. Князєв, Г. О. Князєва, В. В. Субботіна, О. О. Волков, В. А. Рябоштан // Фізика і хімія твердого тіла. - 2025. - Т. 26. - № 2. - С. 436-441.uk_UA
dc.identifier.other10.15330/pcss.26.2.436-441-
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/123456789/23813-
dc.description.abstractВ статті представлені результати досліджень отримання однофазного боридного шару та твердо-газофазного силіціювання на вуглецевій конструкційній сталі. Показано вплив зернистості порошків і складу насичуючої суміші на структуру та властивості дифузійних покриттів. Порівняно властивості отриманих поверхневих структур з покриттями нітриду хрому, отриманого методом PVD. Встановлено можливість отримання товстих дифузійних однофазних боридних та силіцидних шарів, що за рівнем механічних і хімічних характеристик не поступаються нітридним, отриманим іонно-плазмовим осадженням. Показано наявність у силіцидному шарі 75,7% FeSi, 19,6% Si2CN4 та 4,8% Al5Fе фаз, що забезпечило високі показники стійкості до окислення при температурі 1000°С.uk_UA
dc.language.isouk_UAuk_UA
dc.publisherПрикарпатський національний університет імені Василя Стефаникаuk_UA
dc.subjectсиліціюванняuk_UA
dc.subjectборидний шарuk_UA
dc.subjectметалографічні дослідженняuk_UA
dc.subjectінструментальне індентуванняuk_UA
dc.subjectнітрид хромуuk_UA
dc.titleВдосконалення технології отримання борованих і силіцьованих шарів та порівняння їх властивостейuk_UA
dc.title.alternativeImproving the technology of producing boron and siliconized layers and comparing their propertieuk_UA
dc.typeArticleuk_UA
Розташовується у зібраннях:Т. 26, № 2

Файли цього матеріалу:
Файл Опис РозмірФормат 
29_Kniaziev.pdf755.94 kBAdobe PDFПереглянути/Відкрити


Усі матеріали в архіві електронних ресурсів захищені авторським правом, всі права збережені.